光刻机，芯片制造过程中最为关键的设备之一。光刻机的精度与质量，直接决定着芯片的性能、质量和生产效率，对于一个国家的半导体产业起到了至关重要的作用。由于光刻机制造难度极高，全球能生产光刻机的企业屈指可数，荷兰的ASML、日本的尼康、佳能，我国的上海微电子。

不可否认，荷兰ASML是光刻机这一金字塔最顶尖的企业，在高端EUV光刻机领域形成了绝对垄断优势，中高端DUV光刻机市场ASML依旧有很高的话语权，不过并没有形成垄断局势，日本的尼康、佳能也有部分市场份额。

由于ASML光刻机包含了大量美技术与专利，日本又是老美的“盟友”，随着中美芯片战愈演愈烈，老美却联合荷兰、日本达成三方协议，限制14nm芯片制造相关设备的自由出货。起初迫于我国巨大的市场，荷兰、日本表示会采取“温和”的措施，不会跟随美脚步肆意断供。

日本丝毫不顾忌断供后果，率先宣布对23种芯片制造设备进行出口管制，这些设备几乎涵盖了光刻、蚀刻、测试、清洗、测量等整个产业链。几乎没有为自己留任何后路，正是如此，我国针对日本断供一事提出了严正交涉并向世贸组织提起了诉讼。